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循環加熱器 半導體用溫控設備

簡要描述:【無錫冠亞】循環加熱器 半導體用溫控設備,應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過程中有需熱、放熱過程控制。解決化學醫藥工業用準確控溫的特殊裝置,用以滿足間歇反應器溫度控制或持續不斷的工藝進程的加熱及冷卻、恒溫系統。

  • 產品型號:SUNDI-175
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-01-17
  • 訪  問  量:1000
詳情介紹
品牌冠亞恒溫價格區間10萬-20萬
產地類別國產應用領域化工,生物產業,石油,制藥/生物制藥,綜合

循環加熱器 半導體用溫控設備


無錫冠亞冷熱一體機典型應用于:

高壓反應釜冷熱源動態恒溫控制、雙層玻璃反應釜冷熱源動態恒溫控制、

雙層反應釜冷熱源動態恒溫控制、微通道反應器冷熱源恒溫控制;

小型恒溫控制系統、蒸飽系統控溫、材料低溫高溫老化測試、

組合化學冷源熱源恒溫控制、半導體設備冷卻加熱、真空室制冷加熱恒溫控制




型號

SUNDI-125

SUNDI-125W

SUNDI-135

SUNDI-135W

SUNDI-155

SUNDI-155W

SUNDI-175

SUNDI-175W

SUNDI-1A10

SUNDI-1A10W

SUNDI-1A15

SUNDI-1A15W

介質溫度范圍

-10℃~+200℃

控制系統

前饋PID ,無模型自建樹算法,PLC控制器

溫控模式選擇

物料溫度控制與設備出口溫度控制模式 可自由選擇

溫差控制

設備出口溫度與反應物料溫度的溫差可控制、可設定

程序編輯

可編制5條程序,每條程序可編制40段步驟

通信協議

MODBUS RTU 協議  RS 485接口

外接入溫度反饋

PT100或4~20mA或通信給定(默認PT100)

溫度反饋

設備導熱介質 溫度、出口溫度、反應器物料溫度(外接溫度傳感器)三點溫度

導熱介質溫控精度

±0.5℃

反應物料溫控精度

±1℃

加熱功率 kW

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

制冷量 kW

200℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

20℃

2.5

3.5

5.5

7.5

10

15

-5℃

1.5

2.1

3.3

4.2

6

9

流量壓力 max

L/min bar

20

35

35

50

50

75

2

2

2

2

2

2.5

壓縮機

海立

艾默生谷輪/丹佛斯渦旋壓縮機

膨脹閥

丹佛斯/艾默生熱力膨脹閥

蒸發器

丹佛斯/高力板式換熱器

操作面板

7英寸彩色觸摸屏,溫度曲線顯示、記錄

安全防護

具有自我診斷功能;冷凍機過載保護;高壓壓力開關,過載繼電器、熱保護裝置等多種安全保障功能。

密閉循環系統

整個系統為全密閉系統,高溫時不會有油霧、低溫不吸收空氣中水份,系統在運行中不會因為高溫使壓力上升,低溫自動補充導熱介質。

制冷劑

R-404A/R507C

接口尺寸

G1/2

G3/4

G3/4

G1

G1

G1

水冷型 W

溫度 20度

600L/H

1.5bar~4bar

G3/8

800L/H

1.5bar~4bar

G1/2

1000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1200L/H

1.5bar~4bar

G3/4

1600L/H

1.5bar~4bar

G3/4

2000L/H

1.5bar~4bar

G3/4

外型尺寸(水)cm

45*65*120

50*85*130

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

外形尺寸 (風)cm

45*65*120

50*85*130

55*100*175

55*100*175

70*100*175

70*100*175

隔爆尺寸(風) cm

45*110*130

45*110*130

45*110*130

55*120*170

55*120*170

55*120*170

正壓防爆(水)cm

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

110*95*195

120*110*195

常規重量kg

115

165

185

235

280

300

電源 380V 50HZ

AC 220V 50HZ 3.6kW

5.6kW

7.5kW

10kW

13kW

20kW

選配風冷尺寸cm

/

50*68*145

50*68*145

50*68*145

/

/


循環加熱器 半導體用溫控設備

循環加熱器 半導體用溫控設備

      

 

  

  日常保養半導體溫控設備是確保其正常運行和延長使用的重要環節,以下是一些具體的保養方法。

  一、外觀清潔與防護

  首先,保持設備外觀的整潔干凈是基礎保養步驟。定期使用柔軟、無絨布輕輕擦拭設備外殼,去除表面的灰塵、污漬以及可能飄落的細微顆粒。這不僅能維持設備的良好形象,更重要的是防止灰塵通過散熱孔、縫隙等進入內部,干擾電子元件的正常散熱,進而影響溫控精度。同時,對于設備周邊環境,也要保持清潔,避免雜物堆積,防止意外碰撞對設備造成損壞。特別注意清理設備的進風口和出風口,防止灰塵堵塞影響散熱效果。同時,定期清潔防塵網,確保空氣流通。

  二、溫度傳感器校準

  溫度傳感器的準確關乎溫控效果。定期使用校準儀器對溫度傳感器進行校準。由于半導體工藝對溫度要求高。在校準過程中,需要按照設備要求確保傳感器能感知溫度,為控制系統提供可靠的數據支持,讓設備的控溫精度始終維持正常水平。

  三、散熱系統維護

  半導體溫控設備在運行過程中會產生熱量,散熱系統直接影響設備使用。定期檢查散熱風扇的運轉情況,查看風扇葉片是否有變形、損壞或異物纏繞,若發現問題及時清理或更換葉片,保證風扇能夠高速穩定地轉動,為設備提供強勁的風冷散熱。對于散熱鰭片,要注意查看是否積塵過多,積塵會降低熱交換效率,可使用壓縮空氣或軟毛刷輕輕清理,確保熱量能夠順暢散發出去,避免因散熱不暢引發設備過熱保護。




循環加熱器 半導體用溫控設備








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