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簡要描述：【無錫冠亞】是一家專注提供高低溫控溫解決方案的設備廠家，公司主要生產(chǎn)高低溫沖擊氣流儀（熱流儀）、chiller、超低溫制冷機、高低溫測試機機、高低溫沖擊箱等各種為通訊、光模塊、集成電路芯片、航空航天、天文探測、電池包氫能源等領域的可靠性測試提供整套溫度環(huán)境解決方案。半導體冷水機丨刻蝕/鍍膜工藝專用冷卻方案
產(chǎn)品型號：FLTZ-203W-2T廠商性質：生產(chǎn)廠家更新時間：2025-03-20訪 問 量：613| 品牌 | 冠亞恒溫 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
半導體冷水機丨刻蝕/鍍膜工藝專用冷卻方案
半導體冷水機丨刻蝕/鍍膜工藝專用冷卻方案
在半導體制造工藝中，等離子刻蝕冷卻Chiller作為關鍵溫控設備，通過制冷技術和智能控制系統(tǒng)，為工藝穩(wěn)定性提供保障。
一、等離子刻蝕工藝的溫控挑戰(zhàn)
等離子刻蝕過程中，反應腔室內的高頻電場將氣體電離為等離子體，這些高能粒子轟擊硅片表面完成刻蝕。然而，等離子體釋放的巨大熱量會使腔室溫度急劇上升。若溫度失控，可能引發(fā)以下問題。
1、刻蝕速率波動：溫度變化影響化學反應速率，導致刻蝕深淺不一致；
2、材料熱應力損傷：局部過熱可能使硅片或掩膜層產(chǎn)生裂紋；
3、副產(chǎn)物沉積：高溫加速反應副產(chǎn)物在腔室壁的附著，降低工藝穩(wěn)定性。
因此，等離子刻蝕冷卻Chiller需在短時間內將腔室溫度控制在很小的精度內，同時適應-100℃至150℃的寬溫域需求。
二、Chiller的核心工作原理
等離子刻蝕冷卻Chiller通過閉環(huán)制冷系統(tǒng)實現(xiàn)溫控，其核心流程包括，
1、制冷劑循環(huán)
壓縮機將氣態(tài)制冷劑壓縮為高溫高壓氣體；氣體經(jīng)風冷或水冷式冷凝器液化，釋放熱量；電子膨脹閥調節(jié)液態(tài)制冷劑壓力，使其低溫蒸發(fā)；制冷劑在蒸發(fā)器中吸收反應腔室的熱量，完成降溫。
2、全密閉循環(huán)設計
系統(tǒng)采用不銹鋼SUS304管路和E密封材料，杜絕水分和雜質侵入，確保導熱介質純凈度。
3、雙變頻技術
循環(huán)泵和壓縮機均采用變頻調節(jié)，根據(jù)實時負載自動調整功率，在保證制冷效率。
三、技術特點與創(chuàng)新優(yōu)勢
1、精度控溫
采用PID算法和PLC控制器，實現(xiàn)控溫精度；支持多段溫度曲線編程，適應刻蝕工藝的復雜溫控需求（如快速升降溫）。
2、寬溫域與制冷
低溫復疊制冷系列支持寬溫域，滿足深紫外刻蝕的低溫需求；直冷型Chiller通過制冷劑直接蒸發(fā)換熱，效率較傳統(tǒng)液冷提升30%以上。
等離子刻蝕冷卻Chiller憑借其溫控、制冷和可靠的特性，已成為半導體制造鏈條中配套使用的設備。隨著芯片工藝對溫控精度的要求越來越高，等離子刻蝕冷卻Chiller也將持繼續(xù)前進。
